半導(dǎo)體制造工藝日趨復(fù)雜，為了制造出高精度的半導(dǎo)體元器件，需要提高套刻的精度，因而曝光前要測量的對(duì)準(zhǔn)測量點(diǎn)也越來越多。

如果在半導(dǎo)體光刻機(jī)中對(duì)數(shù)量眾多的測量點(diǎn)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測量的話，測量本身會(huì)非常耗時(shí)，進(jìn)而就會(huì)降低半導(dǎo)體光刻機(jī)的生產(chǎn)效率。

為此，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域引進(jìn)了晶圓測量機(jī)，將半導(dǎo)體光刻機(jī)的對(duì)準(zhǔn)測量功能分離出來，以此來確保生產(chǎn)的高精度和效率。

2月21日消息，今天佳能宣布推出半導(dǎo)體制造用晶圓測量機(jī)“MS-001”，該產(chǎn)品可以對(duì)晶片進(jìn)行高精度的對(duì)準(zhǔn)測量。

該產(chǎn)品可以在晶片運(yùn)送至半導(dǎo)體光刻設(shè)備之前統(tǒng)一完成大部分的對(duì)準(zhǔn)測量，減輕在半導(dǎo)體光刻設(shè)備中進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測量操作的工作量。

佳能表示，“MS-001”所搭載的調(diào)準(zhǔn)用示波器安裝有區(qū)域傳感器，可以進(jìn)行多像素測量，降低測量時(shí)的噪音。

增加的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記（示意）

另外，“MS-001”還可以對(duì)多個(gè)種類的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行測量。通過采用新開發(fā)的調(diào)準(zhǔn)用示波器光源，新產(chǎn)品可提供的波長范圍比在半導(dǎo)體光刻設(shè)備中測量時(shí)大1.5倍，能夠以用戶所需的任意波長進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測量。因此，相較于在半導(dǎo)體光刻設(shè)備中所進(jìn)行的測量，“MS-001”所能實(shí)現(xiàn)的對(duì)準(zhǔn)測量精度要更高。

光刻機(jī)要對(duì)電路圖進(jìn)行多次重復(fù)曝光。其定位精度是非常準(zhǔn)確的。如果不能對(duì)已經(jīng)曝光的下層部分進(jìn)行準(zhǔn)確定位的話，整個(gè)電路的質(zhì)量會(huì)降低，進(jìn)而導(dǎo)致生產(chǎn)良品率的降低。如果用高爾夫來比喻其精度的話，它就相當(dāng)于從東京到夏威夷的距離實(shí)現(xiàn)“一桿入洞”。